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Spin Coater的優(yōu)點和缺點有哪些?

更新時間:2021-04-20       點擊次數(shù):1392
   Spin Coater的基本原理便是在在旋涂過程中,以每分鐘1000轉(zhuǎn)(rpm)的速度旋轉(zhuǎn)的基板的離心力會在基板上分配幾毫升的抗蝕劑。其優(yōu)點是:高抗蝕劑膜厚度均勻性以及較短的涂覆時間,使得旋涂至少在微電子學(xué)中成為廣泛應(yīng)用的涂覆技術(shù)。旋涂后,已涂覆的抗蝕劑已經(jīng)損失了大量溶劑,因此無需在進一步的處理步驟(處理,軟烘烤)之前保持費時的延遲。
  局限和缺點:在非旋轉(zhuǎn)對稱基板的情況下,由于強烈的空氣湍流,抗蝕劑在基板邊緣附近形成了明顯的邊緣珠。
  Spin Coater對抗蝕劑膜厚度的影響當(dāng)抗蝕劑剝離完成時,以一定旋轉(zhuǎn)速度給出的抗蝕劑膜厚度保持足夠長的旋轉(zhuǎn)時間。達到膜厚所需的旋轉(zhuǎn)時間隨抗蝕劑粘度的增加而增加。低旋轉(zhuǎn)速度也會導(dǎo)致增加時間,以獲得恒定的抗蝕劑膜厚度??刮g劑膜中剩余的溶劑濃度也影響其厚度。在涂布過程中,溶劑濃度下降并達到約15-25%的飽和度,這取決于膜厚,對于較厚的膜則更高。
  在有紋理的基材上,所獲得的紋理邊緣覆蓋范圍很小,并且拓撲結(jié)構(gòu)的某些部分可能根本不會被覆蓋。僅有百分之幾的抗蝕劑產(chǎn)率相當(dāng)?shù)汀?/div>
  Spin Coater中的高環(huán)境溶劑飽和度會降低所獲得的抗蝕劑膜的厚度,由于抑制了溶劑從抗蝕劑中的蒸發(fā),導(dǎo)致膜的平整度降低。因此,與隨后在旋涂機中涂覆有一定數(shù)量的新鮮抗蝕劑的晶片相比,一系列涂覆的前幾個晶片可能會顯示出稍高的膜厚。在這種情況下,需要借助于恒定的抗蝕劑膜厚度,在涂層系列開始時對一些虛擬晶片進行蝕刻將是有益的。該設(shè)備還會影響所獲得的抗蝕劑膜厚度:與標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)相比,旋轉(zhuǎn)陀螺儀可將膜厚度減小兩倍。
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